俄羅斯稱自主研發「7奈米級光刻機」2028年問世 估效能超越ASML

▲▼晶片、半導體。(圖/路透)

▲俄羅斯受到制裁,許多晶片產業相關技術與設備都無法進口。(圖/路透)

記者張寧倢/綜合外電報導

俄羅斯一家研究機構宣稱正在自行研發一款光刻機,計畫在2028年以前問世,將能用於生產7奈米晶片,還自誇效能有機會比荷蘭製造商「ASML」的Twinscan NXT:2000i機型來得更高,而過去ASML經歷了十多年的時間才發展出這台光刻機。

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綜合外媒報導,俄羅斯2月下旬對烏克蘭發動戰爭後,台灣禁止向俄國出口先進晶片,美國、英國和歐盟也實施制裁,導致幾乎所有擁有先進晶圓廠的製造商都中斷與俄羅斯的合作,像安謀控股公司(Arm)這樣的半導體設計公司也無法將技術授權給俄籍的晶片設計師。因此俄國政府推出一項國家計畫,誓言在2030年以前發展本國自有的28奈米晶片製造技術,培育科技人才。

報導指出,俄羅斯目前最先進的晶片技術為65奈米級,若想發展至28奈米就需要更高級的設計與製造設備,不過歐美製造商現因制裁無法提供設備。對此,俄羅斯科學院應用物理研究所(IPP RAS)就宣布計畫開發一款比應用材料公司(Applied Materials)旗下產品更好用的7奈米光刻機,分別在2024年與2026年開發出alpha和beta版本後,最終在2028年完成全功能光刻設備的交付。

▲荷蘭半導體設備製造商ASML用於生產7奈米和5奈米級晶片的光刻機Twinscan NXT:2000i DUV在2018年才問世,俄羅斯研究機構喊話要在2028年以前研發出更高效能的光刻機。(示意圖/CFP)

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報導稱,成立於1984年的ASML是全球唯一EUV(極紫外光)光刻機供應商,花了14年時間才從65奈米技術發展到終於推出7奈米光刻機,而俄羅斯此前並無任何光刻機生產方面的經驗,回溯蘇聯時代,光刻系統也是在白俄羅斯製造的。不過,IPP RAS宣稱只需要6年就能開發出可支援生產7奈米晶片的光刻機。

報導估計,就算俄羅斯真的研發出7奈米級光刻機,也會因為缺乏製造晶片所需的其他設備和技術,而導致投資本土晶片廠的國家計畫停滯。

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