記者吳銘峯/台北報導
曾在南亞科技公司工作的李姓資深工程師,為前往大陸的半導體公司任職,2016年間將南亞科20奈米晶圓所有製程複製列印,研讀熟記後赴大陸工作。南亞科提告,智慧財產法院將李男判刑1年10月,案經上訴,最高法院4日駁回上訴定讞。
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判決指出,李男(53歲)自2006年起就在南亞科技公司工作,2016年間更擔任該公司錦興廠的產品部小組長,得以接觸公司內部機密,並熟悉公司晶圓產品製程。但他為了前往大陸西安紫光國芯半導體公司任職,2016年12月間,利用參加線上訓練課程與假日等時機,在南亞科技公司辦公室,以個人電腦登入帳號、密碼,意圖複製20奈米晶圓機密;但因限制存取而未成功。
之後李男改採螢幕截圖方式,將20奈米晶圓所有製程複製列印,研讀熟記。李男隨後參加大陸公司的視訊面試,並在2017年1月間搭機到大陸公司面試,但卻未能順利取得新工作。南亞科技公司察覺有異,報請檢調單位查辦,檢方查出李男惡行,因此依照《營業秘密法》「未經授權而重製營業祕密罪」提起公訴。
法院審理時,李男坦承確實以螢幕截圖方式拍下20奈米晶圓製程,但這些螢幕截圖並非營業秘密,只是為了讓自己更充實而列印,並無在我國範圍以外使用之意圖。但法院審理後,認為這些螢幕截圖確實具有營業秘密,而且李男還帶著這些資料前往大陸應試,成立本罪。一審桃園地院智財庭將他判刑1年10月。
案經上訴,智財法院審理後也認為有罪,駁回上訴。全案再上訴第三審,最高法院審理後也認定有罪,駁回檢辯雙方上訴,全案就此確定。
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