▲中芯國際。（圖／CFP）
記者鄭文晴／綜合報導
中美關係日趨緊張，美國《晶片法案》陸續限制半導體、技術及晶片出口中國。對此，中國最大的晶圓代工廠「中芯國際（SMIC）」將斥資75億美元（約2261億元新台幣），規劃在天津建設月產能為10萬片的12吋晶圓廠。不過中芯國際工程師曾透露，中國開發的深紫外光（DUV）曝光機問題很多，目前根本沒能製造出良好的DUV曝光機，狠打臉中國宣布即將量產28奈米DUV的訊息。
根據《天津日報》報導，9月24日中芯國際天津西青12吋晶元專案正式開工建設，此專案計劃將投資75億美元，規劃建設每月生產10萬片的12吋晶圓的產能，可提供0.18微米—28奈米不同技術節點的晶圓代工與技術服務，產品主要應用於通訊、汽車電子、消費電子、工業等領域。
中芯國際聯合首席執行官趙海軍表示，中芯國際將加快推進新項目建設，進一步加固天津市集成電路製造領域的高地優勢，拉動京津冀產業鏈上下游協同發展，為中國集成電路產業的蓬勃發展作出新的貢獻。
美國8月宣布禁止對中國出口用於3奈米以下製程的EDA軟體；9月初又限制GPU雙雄超微（AMD）、輝達（NVIDIA）高階人工智慧（AI）晶片出貨中國，半導體已成為中美最激烈的戰場之一。
▲ 半導體製造商ASML。（圖／路透）
根據《半島電視台》報導，知名半導體研究顧問SemiAnalysis分析師派特爾（Dylan Patel）曾透露，雖然傳出中芯國際在7奈米製程獲得進展，但卻缺少了生產更高階晶片所需的荷商ASML的EUV曝光機，而在美國施壓下，ASML未出口EUV給中國，中國只好使用DUV來製造高端晶片。
派特爾指出，中芯國際工程師曾自曝，中國並未成功製造出良好的DUV曝光機，因為長期使用外國設備製造晶片，所以國產設備早已落後外國多年。
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