▲俄羅斯受到制裁，許多晶片產業相關技術與設備都無法進口。（圖／路透）
記者張寧倢／綜合外電報導
俄羅斯一家研究機構宣稱正在自行研發一款光刻機，計畫在2028年以前問世，將能用於生產7奈米晶片，還自誇效能有機會比荷蘭製造商「ASML」的Twinscan NXT:2000i機型來得更高，而過去ASML經歷了十多年的時間才發展出這台光刻機。
綜合外媒報導，俄羅斯2月下旬對烏克蘭發動戰爭後，台灣禁止向俄國出口先進晶片，美國、英國和歐盟也實施制裁，導致幾乎所有擁有先進晶圓廠的製造商都中斷與俄羅斯的合作，像安謀控股公司（Arm）這樣的半導體設計公司也無法將技術授權給俄籍的晶片設計師。因此俄國政府推出一項國家計畫，誓言在2030年以前發展本國自有的28奈米晶片製造技術，培育科技人才。
報導指出，俄羅斯目前最先進的晶片技術為65奈米級，若想發展至28奈米就需要更高級的設計與製造設備，不過歐美製造商現因制裁無法提供設備。對此，俄羅斯科學院應用物理研究所（IPP RAS）就宣布計畫開發一款比應用材料公司（Applied Materials）旗下產品更好用的7奈米光刻機，分別在2024年與2026年開發出alpha和beta版本後，最終在2028年完成全功能光刻設備的交付。
▲荷蘭半導體設備製造商ASML用於生產7奈米和5奈米級晶片的光刻機Twinscan NXT:2000i DUV在2018年才問世，俄羅斯研究機構喊話要在2028年以前研發出更高效能的光刻機。（示意圖／CFP）
報導稱，成立於1984年的ASML是全球唯一EUV（極紫外光）光刻機供應商，花了14年時間才從65奈米技術發展到終於推出7奈米光刻機，而俄羅斯此前並無任何光刻機生產方面的經驗，回溯蘇聯時代，光刻系統也是在白俄羅斯製造的。不過，IPP RAS宣稱只需要6年就能開發出可支援生產7奈米晶片的光刻機。
報導估計，就算俄羅斯真的研發出7奈米級光刻機，也會因為缺乏製造晶片所需的其他設備和技術，而導致投資本土晶片廠的國家計畫停滯。
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