▲上海微電子傳出成功研製28nm光刻機。（圖／翻攝你好張江官方微信）
記者魏有德／綜合報導
上海張家集團官方微信公眾號「你好張江」19日發出一篇文章，回顧2023年在半導體及AI產業的發展概況。在提到技術前沿科技部分，「上海微電子成功研製出28納米（奈米，下同）光刻機」這句話引起業內震撼，認為是在大陸國產光刻機研發上的成功突破。不過，就在業內一片敲鑼打鼓聲中，文章卻刪除「28納米」字樣，改為致力於研製先進的光刻機，引起外界無限遐想。
▲經過1日，文章修改為「致力研製先進的光刻機」。（圖／翻攝你好張江官方微信）
「你好張江」原文顯示，作為國內唯一一家掌握光刻機技術的企業，上海微電子「成功研製出28納米光刻機」。消息一出，瞬間在大陸半導體業內傳開，普遍認為大陸國產光刻機的問世有望在2023年底兌現。
不過，不知因何原因，文章發出後隔日，文章悄悄的把內容改為，作為國內唯一一家掌握光刻機技術的企業，上海微電子「致力於研製先進的光刻機」。
據了解，上海微電子自製的這款immersion式光刻機是採用ArF光源，也就是193nm波長的光源，屬於第四代光刻機，假使已經研製成功並準備量產，將會代表著大陸在光刻機研發領域與全球龍頭ASML僅剩1代的差距，即便是兩代差距約在20年左右，但此項製程工藝也將追上日本Canon、Nikon等企業，邁出一大步。
無論如何，大陸假使實現量產28nm光刻機，便可大量生產中低領域的晶片，無論是華為手機或電動車發展，缺「芯（晶片）」問題有望逐步解開，藉此擺脫外部力量的限制。
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